日本OSAKA大阪真空渦輪分子泵TGkine4200M-B

日本OSAKA大阪真空渦輪分子泵TGkine4200M-B

TGkine4200M-B是日本OSAKA大阪真空公司推出的一款高性能磁懸浮軸承型渦輪分子泵，專為半導體制造、FPD（平板顯示器）制造、太陽能電池制造以及光學元件加工等需要超高真空環境的領域設計。

該泵采用優良的磁懸浮軸承技術，實現了無油排氣，消除了機械接觸，減少了磨損和振動，延長了泵的使用壽命，同時降低了維護成本。磁懸浮軸承的應用還使得泵體可以在任意角度安裝，適應各種復雜的工作環境。

TGkine4200M-B集成了電源控制器與分子泵的一體化設計，省去了輸出電纜和控制器機架，顯著減少了設備的占地面積，簡化了系統結構，提高了整體可靠性。在性能方面，該泵具有出色的排氣性能，其排氣速度在N?（氮氣）下可達4200 L/s，加裝金屬保護網后有效抽速仍可達4000 L/s，能夠滿足大流量氣體排放的需求。同時，該泵還具備高壓縮比，N?的最大壓縮比超過2×10?，H?的最大壓縮比為2×103，可形成穩定的超高真空環境，極限壓力低于5×10?? Pa。

此外，TGkine4200M-B還具備省電設計，能夠在保證高抽速的同時，有效降低能耗，為企業節省運營成本。該泵還支持多種通信接口，便于與各種控制系統進行集成，實現遠程監控和自動化操作。同時，該泵符合CE、NRTL、SEMI-S2等國際安全標準，確保了產品在全球范圍內的通用性和安全性。其防護等級達到IP54，能夠有效抵御灰塵和水的侵入，確保在惡劣環境下的穩定運行。